在平面机构中,高副具有______个约束。
1(或一)
扫描二维码免费使用微信小程序搜题/刷题/查看解析。
版权声明:本文由翰林刷题小程序授权发布,如需转载请注明出处。
本文链接:https://doc.20230611.cn/post/810482.html
上一篇:甲于1999年8月24日就其商标“猎峰”申请注册使用在第25类的靴、鞋等商品上,乙于1999年12月4日就其商标“猎峰”申请注册使用在第25类的拖鞋上。根据我国商标法规定,决定甲乙取得注册商标专用权应依据的原则是( )
下一篇:企业信息化工作一般由_____来统领。